- 三星自研EUV光罩保護(hù)膜透光率已達(dá)90%
- 5納米無需EUV，ASML的光刻機(jī)將成廢鐵，中國市場成救命稻草
- 價(jià)格只有EUV的10%，佳能銷售5nm光刻機(jī)，但不賣給中國
- 7nm芯片，不用EUV光刻機(jī)一樣造，這就是我們的能力和底氣？
- 2納米無需EUV光刻機(jī)，ASML或面臨滅頂之災(zāi)，難怪加緊對中國出貨了
- 有點(diǎn)搞笑了，佳能5nm納米壓印技術(shù)，也離不開EUV光刻機(jī)
- 佳能納米壓印技術(shù)挑戰(zhàn)EUV，臺積電、聯(lián)電、光罩有機(jī)會受益
- 佳能5nm NIL光刻機(jī)告訴我們，繞過EUV，或許才是出路
- ASML真的慌！佳能繞開EUV，5nmNIL光刻機(jī)出貨，可惜不賣給中國
- 國產(chǎn)EUV光刻要突破，三大核心中，僅一項(xiàng)稍有把握
