- ASML:中國(guó)HW/SMEE造不出EUV光刻機(jī),不擔(dān)心競(jìng)爭(zhēng)
- 阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實(shí)驗(yàn)室啟用:最早2025年大量生產(chǎn)High NA EUV
- ASML新EUV光刻機(jī)28億?臺(tái)積電:我不買(mǎi),不浪費(fèi)錢(qián),2nm一樣造
- 前途末路!ASML陷入“工藝陷阱”,EUV光刻機(jī)走進(jìn)了死胡同?
- 臺(tái)積電買(mǎi)的ASML EUV光刻機(jī)被曝暗藏后門(mén):可以遠(yuǎn)程自毀!
- 芯片制造新專(zhuān)利突然被公布,5納米繞開(kāi)EUV或成真,國(guó)產(chǎn)芯片再突破
- ChatGPT每天用電50萬(wàn)度,相當(dāng)于2臺(tái)EUV光刻機(jī)
- 美歐日韓芯片聯(lián)盟,出現(xiàn)裂縫,EUV光刻機(jī)時(shí)代,要過(guò)去了?
- 新路線出現(xiàn):EUV光刻機(jī)后,是BEUV技術(shù),我們趕緊沖!
- 今年5nm,2026年2nm,EUV光刻機(jī)攪局者,終于要量產(chǎn)了