三星:3nmGAA研發(fā)進(jìn)度領(lǐng)先臺(tái)積電,將盡早商業(yè)化
8月26日消息,據(jù)韓媒Business Korea報(bào)道,三星電子裝置解決方案事業(yè)部門技術(shù)長(zhǎng)Jeong Eun-seung周三(25日)在一場(chǎng)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)論壇中表示,三星能夠搶在主要競(jìng)爭(zhēng)者臺(tái)積電之前,宣布GAA技術(shù)商業(yè)化。
他說(shuō),“我們開(kāi)發(fā)中的GAA技術(shù),領(lǐng)先主要競(jìng)爭(zhēng)者臺(tái)積電。一旦鞏固這項(xiàng)技術(shù),我們的晶圓代工事業(yè)將可更加成長(zhǎng)。”
據(jù)報(bào)道,GAA是3納米制程的關(guān)鍵。GAA技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于改變電晶體架構(gòu),將之由鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET)的3D轉(zhuǎn)為GAA的4D。

行業(yè)分析師指出,誰(shuí)先將首先將GAA技術(shù)商業(yè)化,還有待進(jìn)一步觀察。這是因?yàn)榕_(tái)積電在早期也積極將該技術(shù)商業(yè)化。2011年至2020年間,全球31.4%的GAA專利來(lái)自臺(tái)積電,三星電子的GAA專利占20.6%。
三星電子表示,其在技術(shù)上與臺(tái)積電并駕齊驅(qū)。Jeong Eun seung指出,三星的晶圓代工事業(yè)2017年才開(kāi)始,不過(guò)我們將憑借在存儲(chǔ)芯片領(lǐng)域的技術(shù)根基,超越臺(tái)積電。他舉例三星曾在臺(tái)積電之前,就開(kāi)發(fā)了一款搭載FinFET技術(shù)的14MHz產(chǎn)品。
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