在光刻機市場，業(yè)界都清楚ASML是老大，中國的光刻機技術還遠遠落后，不過這里說的其實是前道光刻機，芯片制造行業(yè)除了前道光刻機之外，還有后道光刻機，而后道光刻機則是國產光刻機取得優(yōu)勢。

后道光刻機又叫封裝光刻機，后道光刻機的技術難度比前道光刻機小許多，因此中國的光刻機企業(yè)在后道光刻機技術上已取得巨大的進展，甚至還在國內市場取得近乎壟斷的份額。

據統(tǒng)計數據指出國產光刻機在國內后道光刻機市場已取得85%的市場份額，中國的封裝企業(yè)大多采用國產的后道光刻機，去年富士康大舉建設芯片封測廠更是一舉采購了國產的46臺后道光刻機，甚至國產的后道光刻機還取得了出口。

國產的后道光刻機能取得如此巨大的市場份額，在于國產的后道光刻機技術方面已達到7納米的水平，可以滿足國內大多數芯片技術需求，在國內力推國產芯片設備替代的情況下，國產的光刻機大舉搶占市場。

另一個原因則是中國的芯片設備成本更低，在如今全球芯片行業(yè)都在壓成本的情況下，中國的光刻機技術能滿足封裝企業(yè)的需求，低成本優(yōu)勢明顯，國內外的芯片封測企業(yè)都愿意采用，有利于國產的后道光刻機搶占市場。

國產光刻機在后道光刻機市場取得的優(yōu)勢，為它們增強技術研發(fā)提供了支持，畢竟光刻機技術研發(fā)是很燒錢的事情，持續(xù)靠國家輸血，終究很難長久推進技術研發(fā)，而光刻機企業(yè)通過占領后道光刻機市場則可以獲得更多收入，推進前道光刻機的研發(fā)，形成良性循環(huán)。

由于在后道光刻機市場獲得了大量收入，國產的光刻機企業(yè)確實在技術研發(fā)方面也在加速推進，國產光刻機在今年中傳出的消息指已成功突破了浸潤式光刻機技術，該項技術可以應用于28納米到7納米工藝。

對此予以佐證的則是ASML在今年9月份突然宣布對中國出口更先進的2000i光刻機，2000i光刻機可以用于生成7納米，此前對中國出口的1980Di則主要用于28納米，這意味著ASML肯定了中國取得7納米光刻機技術的突破，它希望抓住時間窗口大舉對中國出口更先進的2000i光刻機獲取收入。

據稱ASML這次對中國供應的2000i光刻機不僅量大，價格也實惠，因此中國的芯片紛紛搶購，甚至有芯片制造企業(yè)不僅為生產線大舉購買2000i光刻機，還囤積了部分2000i光刻機，以作為后備的替代，ASML表示明年能否獲得許可存在疑問。

ASML突然松口，說明了中國只要堅持技術研發(fā)，取得技術突破，海外的芯片設備企業(yè)就會迅速松口，證明了自主創(chuàng)新的重要性，只有自主研發(fā)真正取得了突破，海外芯片設備企業(yè)才會松口，正如知名院士倪光南所言，先進技術買不來、求不來，只能靠自研。