如果大家關注光刻機的消息，會發現網上各種光刻機突破，今天這家公司突破了，明天那家公司突破了，甚至是打破ASML的壟斷等等……

也許都是網友們在自嗨，也許是真的突破，也不排除網友們在亂吹牛，亂沸騰。反正按照網上曝光的各種消息來看，國產EUV光刻機似乎都量產了N年了，因為各種突破，都比ASML技術更厲害一樣，屬于頂尖技術。

但時至今日呢？我們對外公開的光刻機精度，依然是90nm，連浸潤式光刻機都造不出來，至于EUV光刻機，那就更別說了，可能在夢里吧。

說真的，我不是要潑冷水，我只是覺得不能量產的各種光刻機突破，都是紙上談兵，沒有用，除了可以自嗨。

一臺光刻機的研發，從提出原理，再到生產原型機，最后到量產，再到交付實際使用，最終實現高良率，這條路是非常漫長的。

ASML的EUV光刻機，最開始是美國等幾大廠商一起研究，提出原理進行驗證，然后難證后，再交給ASML來制造。

從提出原理，到2006年ASML交付第一臺EUV原型光刻機，實際經過了10多年。但ASML的第一代光刻機Alpha EUV，都是用于測試。

而到2010年才推出第二代EUV光刻機，型號是NXE:3100，還是用于測試。直到2013年ASML才真正推出了量產型號NEX:3300B。

可見，從原型機推出，到最后能規模量產的EUV光刻機，ASML都搞了7年，足見從理論到實際，需要的時間有多久了。

所以，目前時不時冒出來的什么光刻機突破，什么EUV光線突破，有多么的不靠譜。就算是靠譜的突破，從理論到真正實現量產，可能也是10年甚至更久之后的事情去了。

所以，我覺得，大家別自嗨，謹慎看待目前網上流傳的各種五花八門的關于什么EUV光刻機突破的消息，靠不靠譜還兩說，就算靠譜，也是短時間之內無法量產，先別激動。

當然，我不是說這些突破就不需要了，畢竟任何產品都是從理論開始的，但這中間需要一個極長的過程，先別吹牛，慢慢把基礎打扎實了再說。