如果大家關(guān)注光刻機(jī)，一定在網(wǎng)上聽(tīng)說(shuō)過(guò)一句話，說(shuō)是ASML嘲笑中國(guó)光刻機(jī)的：“就是給全套圖紙，中國(guó)人也造不出光刻機(jī)來(lái)。”

這句話究竟ASML有沒(méi)有說(shuō)，就無(wú)從考證了。不過(guò)上海微電子的創(chuàng)始人＆董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理賀榮明曾在公開(kāi)場(chǎng)合表示，公司剛成立時(shí)，他帶隊(duì)去歐洲考察，說(shuō)要造光刻機(jī)時(shí)，歐洲的光刻機(jī)專(zhuān)家確實(shí)說(shuō)過(guò)這樣的話。

當(dāng)然，現(xiàn)在看起來(lái)，這句話就是笑話，因?yàn)樯虾Ｎ㈦娮右呀?jīng)造出了光刻機(jī)，雖然精度還在90nm，但就是造了出來(lái)。

但從這句話，還是能夠看出，中國(guó)光刻機(jī)在過(guò)去，究竟有多難，歐洲對(duì)中國(guó)要造光刻機(jī)，有多蔑視。

美國(guó)造出全球第一臺(tái)光刻機(jī)是在1961年，是美國(guó)的GCA公司造出來(lái)的，這是一臺(tái)接觸式光刻機(jī)，曝光精度1um，線寬＞3um，用于2～6寸的晶圓片。

而中國(guó)據(jù)說(shuō)第一臺(tái)接觸式光刻機(jī)是在1966年左右造出來(lái)的，由中國(guó)科學(xué)院微電子研究所與上海光學(xué)儀器廠協(xié)作，造出了一臺(tái)65型接觸式光刻機(jī)。

后來(lái)美國(guó)在70年代，造出了接近式光刻機(jī)，后來(lái)在70年代末又推出了分布式光刻機(jī)……

但當(dāng)時(shí)的中國(guó)實(shí)在底子薄，半導(dǎo)體也沒(méi)得到重視，差不多是0，又加上美國(guó)對(duì)中國(guó)實(shí)行技術(shù)封鎖，很多人連光刻機(jī)是什么都不知道，更不要說(shuō)去造了。

所以很多年來(lái)，國(guó)內(nèi)一直停留在接觸式光刻機(jī)，沒(méi)有新的進(jìn)展。更重要的是，當(dāng)時(shí)中國(guó)芯片制造也沒(méi)跟上時(shí)代，這臺(tái)接觸式光刻機(jī)，也沒(méi)有大規(guī)模的應(yīng)用，更多是用于研究，和工業(yè)化生產(chǎn)沒(méi)有關(guān)系。

直到70年代末，中國(guó)科技界發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體越來(lái)越重要，而半導(dǎo)體離不開(kāi)光刻機(jī)，才明確提出要改進(jìn)光刻設(shè)備，盡快趕超世界先進(jìn)水平。

于是清華大學(xué)精密儀器系，中電科等科研機(jī)構(gòu)再次發(fā)力，大家紛紛開(kāi)始研發(fā)新型光刻機(jī)。

據(jù)稱(chēng)1980年清華大學(xué)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)研發(fā)出了分布式投影光刻機(jī)，而到1985年中電科45所也研發(fā)出了分布式投影光刻機(jī)，其性能與美國(guó)GCA公司在1978年推出的差不多，也就是只落后了7年左右。

但還是像之前一樣，國(guó)內(nèi)的芯片產(chǎn)業(yè)本身就不發(fā)達(dá)，研制出光刻機(jī)，也是用于理論研究，根本就沒(méi)有放到晶圓廠大規(guī)模應(yīng)用，而脫離工業(yè)生產(chǎn)的光刻機(jī)，產(chǎn)業(yè)化一直停滯不前，基本上是為了造而造，不是為了市場(chǎng)需要而造。

而80年代后，國(guó)內(nèi)又興起了一股引進(jìn)潮，說(shuō)得不好聽(tīng)一點(diǎn)，就是“造不如買(mǎi)”，只要有錢(qián)，就可以從美國(guó)、日本、歐洲買(mǎi)到光刻機(jī)，以及全套的芯片生產(chǎn)線，那還造什么造？

于是本來(lái)只落后幾年的光刻機(jī)技術(shù)，以及國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)，在那10多年間，再次停滯不前了，被美國(guó)、歐洲、日本、韓國(guó)超過(guò)，并甩到了腦后。

直到1999年，科索沃戰(zhàn)爭(zhēng)爆發(fā)，這場(chǎng)戰(zhàn)爭(zhēng)中，美國(guó)用電子信息技術(shù)，癱瘓了南聯(lián)盟幾乎所有網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

這讓國(guó)內(nèi)科技界真正重視起電子、信息、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)了，同時(shí)也轉(zhuǎn)變了思想，那就是“買(mǎi)不如造”，因?yàn)橘I(mǎi)的東西不是自己的，一旦和美國(guó)鬧翻，國(guó)家信息安全將面臨嚴(yán)重威脅。

于是研制先進(jìn)的光刻機(jī)再次被提出來(lái)，并被列入了“863重大科技攻關(guān)計(jì)劃”。

在2002年的時(shí)候，承擔(dān)攻堅(jiān)項(xiàng)目任務(wù)的上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司就這樣正式成立了，總經(jīng)理就是賀榮明，公司成立后，他就帶著技術(shù)團(tuán)隊(duì)去歐洲、美國(guó)考察學(xué)習(xí)，歐洲專(zhuān)家很瞧不起他們，于是就說(shuō)出了：給全套圖紙，中國(guó)人也造不出光刻機(jī)的話。

上海微電子成立后，想要造的光刻機(jī)，是193nm光源的干式光刻機(jī)，但此時(shí)已經(jīng)落后國(guó)際水平20多年了，因?yàn)橄衲峥怠⒓涯芤呀?jīng)在20多年前就研究193nm的光刻機(jī)了，正在向165nm進(jìn)發(fā)。

而ASML此時(shí)更是聯(lián)手臺(tái)積電，轉(zhuǎn)向浸潤(rùn)式光刻機(jī)，用水為介質(zhì)，要跳過(guò)165nm，用水為介質(zhì)，讓193nm光源直接等效于134nm光源的光刻機(jī)。

努力了5年，2007年上海微電子的光刻機(jī)研制成功，但核心器件主要來(lái)源于美國(guó)、歐洲等，美國(guó)對(duì)其進(jìn)行了禁運(yùn)，所以雖然研制出來(lái)了，還是無(wú)法量產(chǎn)，只是空中樓閣。

接下來(lái)的時(shí)間，上海微電子只能與國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈一起，攻關(guān)各種關(guān)鍵材料，實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)，擺脫對(duì)西方元件的依賴，這一努力又是10年，直到2016年，上海微電子193nm光源的90nm精度的干式光刻機(jī)，才實(shí)現(xiàn)全面量產(chǎn)。

后來(lái)的故事大家都清楚，由于光刻機(jī)的核心元件、技術(shù)一直被封鎖，所以上海微電子的光刻機(jī)技術(shù)，也一直沒(méi)有太多的進(jìn)步，目前最高精度為90nm。

更重要的是，光刻機(jī)的進(jìn)步必須要跟隨產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步，目前國(guó)內(nèi)的晶圓制造設(shè)備，基本上都是來(lái)源于西方，光刻機(jī)與其它設(shè)備是配套的，大家買(mǎi)ASML的、尼康的、佳能的，基本不用國(guó)產(chǎn)的。

再加上美國(guó)禁運(yùn)、技術(shù)限制，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)到現(xiàn)在，依然落后國(guó)外20年，可以說(shuō)還沒(méi)有完全走出困境。

不過(guò)，現(xiàn)在大家都明白了一點(diǎn)，那就是“買(mǎi)不如造”，只有自己擁有的，才能不被卡脖子，所以光刻機(jī)項(xiàng)目得到了前所未有的重視，一直在努力追趕。

更重要的是，芯片產(chǎn)業(yè)也清楚的明白，只有自己的才是能夠掌控的，也越來(lái)越多的使用國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，讓其產(chǎn)業(yè)化。但說(shuō)實(shí)話，要追上國(guó)際水平，還得繼續(xù)努力，并且可能還得許多年，得坐得住冷板凳才行。