盡管臺積電（TSMC）的3nm制程節(jié)點在性能和功耗方面都會帶來好處，但初代N3工藝的高昂報價讓許多芯片設計公司望而卻步，傳聞報價突破2萬美元。目前臺積電初代N3工藝唯一客戶是蘋果，今年上半年的產(chǎn)能也只是緩慢爬升。

據(jù)Wccftech報道，臺積電可能會降低3nm制程節(jié)點的代工報價，包括后續(xù)的N3E、N3P和N3X，以吸引更多的客戶使用，比如AMD、英偉達、高通和聯(lián)發(fā)科等。要實現(xiàn)這一目標需要一些時間，而且要冒一點風險，不過可以為蘋果以外的客戶提供了更多的機會。

根據(jù)配置的不同，一臺EUV光刻機的成本在1.5億美元到2億美元之間。目前N3工藝的EUV光罩層數(shù)為25層，今年下半年量產(chǎn)的N3E工藝的EUV光罩層數(shù)從25層減少到21層，良品率也更高一些，可以更好地控制制造成本。有市場分析機構表示，今年下半年臺積電在HPC、智能手機和ASIC的主要客戶可能會留在N4/N5，會選擇N3E作為切入3nm制程節(jié)點的首次嘗試，而所謂的N3B將主要限于蘋果的產(chǎn)品。

根據(jù)臺積電近期的報告，與現(xiàn)有的N5工藝相比，N3工藝在用于緩存的SRAM單元方面幾乎沒有縮減，隨著新一代高性能芯片對緩存的需求增加，其尺寸很可能會增加，同時成本也在增加。AMD可能會在Zen 5架構CPU和RDNA 4架構GPU上采用3nm工藝，英偉達的Blackwell架構GPU也可能會這么做，不過也要等到2024年下半年。