先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)疊加國(guó)產(chǎn)化替代風(fēng)口,半導(dǎo)體激光設(shè)備大有可為
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體激光設(shè)備 半導(dǎo)體市場(chǎng) 中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) 國(guó)產(chǎn)替代 激光設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)格局
1.半導(dǎo)體激光設(shè)備概述
激光憑借高能量密度、非接觸加工以及對(duì)材料適應(yīng)性強(qiáng)等優(yōu)勢(shì),被廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、汽車(chē)制造、新能源和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈等領(lǐng)域。隨著半導(dǎo)體制造和封裝工藝的發(fā)展,激光設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中發(fā)揮越來(lái)越重要的作用。近年來(lái),隨著下游行業(yè)對(duì)輕量化、精密化和智能化需求的不斷增加,半導(dǎo)體激光加工設(shè)備正加快迭代升級(jí)。從傳統(tǒng)的二極管泵浦到光纖耦合、超快激光技術(shù),設(shè)備在功率穩(wěn)定性、加工精度和能耗表現(xiàn)上均顯著提升。與此同時(shí),國(guó)產(chǎn)廠商也在技術(shù)突破和成本控制方面不斷追趕,逐步縮小與國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)的差距。可以預(yù)見(jiàn),未來(lái)半導(dǎo)體激光設(shè)備將不僅是單一制造環(huán)節(jié)的工具,而是成為驅(qū)動(dòng)制造業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)的重要引擎。在新興產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的背景下,其市場(chǎng)需求有望持續(xù)擴(kuò)大,帶動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈迎來(lái)新的增長(zhǎng)機(jī)遇。
目前根據(jù)應(yīng)用原理和應(yīng)用工藝環(huán)節(jié)的不同,可將半導(dǎo)體激光設(shè)備分為激光退火設(shè)備、激光材料改性設(shè)備、激光打標(biāo)設(shè)備、激光劃片設(shè)備、解鍵合設(shè)備和修邊(Trimming)設(shè)備等。
1.1激光退火設(shè)備
半導(dǎo)體激光退火設(shè)備是一種半導(dǎo)體制造工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行退火處理,以修復(fù)離子注入工藝造成的晶格損傷并激活雜質(zhì)離子的電活性。
退火設(shè)備包括晶圓退火、金屬薄膜退火以及針對(duì)特定器件的局部退火等幾種設(shè)備。在晶圓退火方面,激光退火可以有效地改善晶圓表面的晶界和晶格缺陷,提高晶圓的結(jié)晶質(zhì)量和晶體的有序程度。同時(shí),激光退火還可以增加晶圓表面的光吸收率,提高晶圓的光電轉(zhuǎn)換效率,從而提高半導(dǎo)體器件的性能。
在金屬薄膜退火方面,激光退火可以使金屬薄膜達(dá)到更高的晶體質(zhì)量和結(jié)晶度,從而提高金屬薄膜的導(dǎo)電性和穩(wěn)定性。此外,激光退火還可以調(diào)控金屬薄膜的晶體結(jié)構(gòu)和晶粒尺寸,改善金屬薄膜的界面結(jié)合力和機(jī)械性能,提高金屬薄膜的可靠性和耐久性。
針對(duì)特定器件的局部退火是激光退火的另一重要應(yīng)用領(lǐng)域。通過(guò)激光退火可以精確控制器件的局部溫度分布,實(shí)現(xiàn)對(duì)器件結(jié)構(gòu)和性能的調(diào)控。
1. 2 激光材料改性設(shè)備
激光材料改性設(shè)備是利用高能量密度的激光束對(duì)材料表面進(jìn)行處理,以改變材料表面的組織結(jié)構(gòu)、化學(xué)成分或性能的設(shè)備。激光材料改性設(shè)備包括激光誘導(dǎo)結(jié)晶設(shè)備和激光外延生長(zhǎng)設(shè)備。
激光誘導(dǎo)結(jié)晶設(shè)備通過(guò)控制激光的輻照方式、強(qiáng)度、時(shí)間和位置等參數(shù),可以對(duì)晶體的生長(zhǎng)進(jìn)行精確的控制,目前主要應(yīng)用于128層以上3D NAND芯片制造中的特定區(qū)域結(jié)晶。3D NAND器件溝道(Channel)的形成過(guò)程中,晶粒尺寸的增大和界面缺陷的減少,可以有效的提升存儲(chǔ)器的特性。隨著溝道尺寸的減小,傳統(tǒng)方法將很難達(dá)到此目的,在電極處沉積的晶體硅不可避免的存在空洞和缺陷。
激光外延生長(zhǎng)設(shè)備通過(guò)將激光注入到芯片的表面或內(nèi)部來(lái)修復(fù)其中的缺陷,主要應(yīng)用于DRAM芯片中非晶硅的缺陷消除及修復(fù)。空洞與缺陷的出現(xiàn),將會(huì)影響接觸電阻以及DRAM的整體性能。退火的時(shí)候,需要避免雜質(zhì)擴(kuò)散到晶體管區(qū)域或者是影響到金屬電極。
1.3激光劃片設(shè)備
激光劃片機(jī)是其在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,將晶圓上的半導(dǎo)體芯片按預(yù)定的劃分線進(jìn)行切割,使之成為獨(dú)立的芯片,以便進(jìn)行后續(xù)的封裝和測(cè)試。激光劃片機(jī)主要應(yīng)用于切割硅晶圓、藍(lán)寶石、低介電常數(shù)材料、MEMS、薄膜太陽(yáng)電池等半導(dǎo)體及光電材料。劃片機(jī)作為半導(dǎo)體芯片后道工序的封裝環(huán)節(jié)加工設(shè)備之一,用于晶圓的劃片、分割或開(kāi)槽等微細(xì)加工,其切割的質(zhì)量與效率直接影響到芯片的封裝質(zhì)量和生產(chǎn)成本。
1.4激光解鍵合設(shè)備
激光解鍵合設(shè)備是一種在室溫下不使用化學(xué)物質(zhì)進(jìn)行低應(yīng)力剝離工藝的設(shè)備。激光解鍵合工藝主要是利用激光穿過(guò)透明載板,光子能量沉積在光敏響應(yīng)材料層,進(jìn)而誘發(fā)材料的快速分解、汽化甚至等離子化而失去粘性。激光解鍵合設(shè)備根據(jù)應(yīng)用環(huán)節(jié)不同分為激光臨時(shí)解鍵合設(shè)備及激光晶圓解鍵合設(shè)備。激光臨時(shí)解鍵合設(shè)備目前主要用于封測(cè)環(huán)節(jié)中臨時(shí)鍵合及解鍵合工藝,激光晶圓解鍵合設(shè)備仍然為當(dāng)前業(yè)內(nèi)廠商研發(fā)突破的重點(diǎn)方向,可應(yīng)用于晶圓制造環(huán)節(jié)3D堆疊領(lǐng)域,如HBM、3D NAND等產(chǎn)品方向,用于解晶圓與晶圓鍵合。
1.5激光打標(biāo)設(shè)備
激光打標(biāo)是用激光在硅片、晶圓或封裝好的芯片表面打上序列號(hào)、生產(chǎn)日期,商標(biāo)、芯片代碼等標(biāo)記,便于追蹤和識(shí)別。一般在硅片制造的開(kāi)始到晶圓制程直至封裝制程的結(jié)束,均需要用到激光打標(biāo)。根據(jù)打標(biāo)精度不同,激光打標(biāo)可分為晶圓激光打標(biāo)設(shè)備和IC激光打標(biāo)設(shè)備。
1.6其他激光加工設(shè)備
除上述設(shè)備以外,仍有很多激光加工設(shè)備在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)存在廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景。在晶圓切邊環(huán)節(jié),激光Trimming設(shè)備可替代傳統(tǒng)砂輪方式對(duì)器件邊緣區(qū)域進(jìn)行剪切處理,有效避免圓片減薄過(guò)程中的碎邊;在集成電路、分立器件封裝溢料的去除工序過(guò)程中,可使用激光去溢膠設(shè)備去除引線框架上在塑封步驟由于引線框架變形以及框架帶突起導(dǎo)致的溢膠;在封測(cè)環(huán)節(jié)中,激光打孔設(shè)備可用于TGV輔助手段,在陶瓷、薄膜等材料上進(jìn)行精密化激光打孔。此外還有激光開(kāi)封機(jī)、激光輔助邦定等設(shè)備也在半導(dǎo)體封測(cè)及先進(jìn)封裝領(lǐng)域得以應(yīng)用。

圖 1 半導(dǎo)體激光設(shè)備分類
2.半導(dǎo)體市場(chǎng)情況
2.1AI需求繼續(xù)發(fā)酵,推動(dòng)全球半導(dǎo)體市場(chǎng)持續(xù)走高
2024年,隨著AI算力需求和存儲(chǔ)芯片價(jià)格回升驅(qū)動(dòng),全球半導(dǎo)體市場(chǎng)重回增長(zhǎng)軌道。據(jù)世界半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計(jì)組織(WSTS)數(shù)據(jù),2024年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模為6272億美元,同比增長(zhǎng)19.1%。以GPU、HBM(高帶寬內(nèi)存)為代表的算力芯片成為全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的核心增長(zhǎng)引擎:根據(jù)Statista的數(shù)據(jù),全球GPU市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)在2029年達(dá)到2700億美元,是現(xiàn)有水平的4倍;存儲(chǔ)器價(jià)格受市場(chǎng)需求刺激從低位逐漸回升,銷(xiāo)量開(kāi)始釋放,實(shí)現(xiàn)量?jī)r(jià)齊升,其中多家存儲(chǔ)芯片廠商如SK海力士、美光科技等均表示,2024年的HBM產(chǎn)能已全部售罄。
2025年,人工智能大模型的發(fā)展將繼續(xù)發(fā)酵,推動(dòng)高性能芯片的應(yīng)用需求。同時(shí),包括汽車(chē)和工業(yè)設(shè)備在內(nèi)的非人工智能芯片市場(chǎng)預(yù)計(jì)將緩慢復(fù)蘇,將帶動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)品的整體銷(xiāo)售增長(zhǎng)。根據(jù)世界半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計(jì)組織(WSTS)的預(yù)測(cè),2025年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)將達(dá)到7280億美元,同比增長(zhǎng)11.2%。

圖 2 2017-2026年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模(億美元)
數(shù)據(jù)來(lái)源:WSTS,優(yōu)園科技
2.2制造和封裝工藝驅(qū)動(dòng)力持續(xù)增強(qiáng),全球設(shè)備需求強(qiáng)勁
半導(dǎo)體設(shè)備作為貫穿半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的技術(shù)先導(dǎo)者,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)和關(guān)鍵支撐。近年來(lái)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)表現(xiàn)出較高的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。人工智能應(yīng)用推動(dòng)芯片創(chuàng)新需求,促使企業(yè)擴(kuò)大產(chǎn)能和投資先進(jìn)制程,是設(shè)備市場(chǎng)增長(zhǎng)的核心動(dòng)力。同時(shí),設(shè)備架構(gòu)復(fù)雜性增加及對(duì)高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)的需求也推動(dòng)了后端設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展。2025年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)同比增長(zhǎng)7.4%至1255億美元,創(chuàng)歷史新高。2026年有望進(jìn)一步增長(zhǎng)至1381億美元,主要受先進(jìn)邏輯、存儲(chǔ)器及技術(shù)轉(zhuǎn)型需求推動(dòng)。

圖 3全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模(億美元)
資料來(lái)源:SEMI,優(yōu)園科技
在2024年創(chuàng)下1043億美元銷(xiāo)售額紀(jì)錄后,晶圓廠設(shè)備(WFE)領(lǐng)域(包括晶圓加工、晶圓廠設(shè)施和掩膜/掩模版設(shè)備)預(yù)計(jì)將在2025年增長(zhǎng)6.2%,達(dá)到1108億美元。這一數(shù)據(jù)較SEMI 2024年底預(yù)測(cè)的1076億美元有所上調(diào),主要受代工廠和存儲(chǔ)器應(yīng)用設(shè)備銷(xiāo)售增加的推動(dòng)。展望2026年,晶圓設(shè)備領(lǐng)域預(yù)計(jì)將進(jìn)一步增長(zhǎng)10.2%,達(dá)到1221億美元,增長(zhǎng)動(dòng)力來(lái)自為支持人工智能應(yīng)用而進(jìn)行的先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)器產(chǎn)能擴(kuò)張,以及各主要細(xì)分市場(chǎng)的工藝技術(shù)遷移。
后端設(shè)備領(lǐng)域預(yù)計(jì)將在2024年開(kāi)始的強(qiáng)勁復(fù)蘇基礎(chǔ)上繼續(xù)增長(zhǎng)。繼2024年同比增長(zhǎng)20.3%后,2025年半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)將進(jìn)一步增長(zhǎng)23.2%,達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的93億美元。2024年,封裝設(shè)備銷(xiāo)售額增長(zhǎng)25.4%,2025年預(yù)計(jì)將再增長(zhǎng)7.7%,達(dá)到54億美元。2026年,后端設(shè)備領(lǐng)域擴(kuò)張勢(shì)頭將繼續(xù),測(cè)試設(shè)備銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)增長(zhǎng)5.0%,封裝設(shè)備銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)增長(zhǎng)15.0%,實(shí)現(xiàn)連續(xù)三年增長(zhǎng)。這一增長(zhǎng)主要受設(shè)備架構(gòu)復(fù)雜性顯著提升,以及人工智能和高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)半導(dǎo)體對(duì)高性能的強(qiáng)勁需求推動(dòng)。
2.3中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)情況分析
2.3.1國(guó)產(chǎn)化替推動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體迅猛發(fā)展
當(dāng)前,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體市場(chǎng)正處于快速發(fā)展的中前期成長(zhǎng)階段,展現(xiàn)出與海外市場(chǎng)不同的發(fā)展規(guī)律。海外市場(chǎng)的半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)進(jìn)入一個(gè)較為成熟的周期性成長(zhǎng)行業(yè),而國(guó)內(nèi)市場(chǎng)則呈現(xiàn)出更為迅猛的發(fā)展勢(shì)頭。在這一背景下,國(guó)產(chǎn)化替代成為推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的核心驅(qū)動(dòng)力。2024年,中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)在國(guó)家政策的大力支持和市場(chǎng)需求的雙重推動(dòng)下,展現(xiàn)出強(qiáng)勁的復(fù)蘇勢(shì)頭。根據(jù)WSTS統(tǒng)計(jì),2024年中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)銷(xiāo)售額達(dá)到1865億美元,占全球市場(chǎng)31.9%。展望未來(lái),在政策的大力支持、行業(yè)周期的反轉(zhuǎn)、國(guó)產(chǎn)替代的加速推進(jìn),以及數(shù)據(jù)中心、AI及端側(cè)設(shè)備等下游市場(chǎng)強(qiáng)勁增長(zhǎng)的多重驅(qū)動(dòng)下,特別是端側(cè)AI領(lǐng)域的快速發(fā)展——即在手機(jī)、PC、攝像頭、智能家居設(shè)備等終端設(shè)備上AI技術(shù)的廣泛應(yīng)用和深度參與,中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有望在下一階段迎來(lái)更好的表現(xiàn)。預(yù)計(jì)2025年中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)將增長(zhǎng)11.4%,銷(xiāo)售額將達(dá)到2078億美元。

圖 4中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模(億美元)
數(shù)據(jù)來(lái)源:WSTS,優(yōu)園科技
2.3.2先進(jìn)工藝迭代和特色工藝擴(kuò)充促進(jìn)設(shè)備市場(chǎng)升級(jí)
半導(dǎo)體前道設(shè)備投資量平均每年占半導(dǎo)體設(shè)備總額的80%左右,我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)在下游快速發(fā)展的推動(dòng)下,保持快速增長(zhǎng)。SEMI預(yù)測(cè),2025年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)需求占全球需求約31%,繼續(xù)保持全球最大半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的地位。我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模增速明顯高于全球,在產(chǎn)能擴(kuò)張、新晶圓廠項(xiàng)目以及前端和后端對(duì)先進(jìn)技術(shù)和解決方案的高需求的推動(dòng)下,2025年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將有望達(dá)2899.3億元。

圖 5 中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模(億元)
資料來(lái)源:SEMI,優(yōu)園科技
2.3.3晶圓制造設(shè)備市場(chǎng)成國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商必爭(zhēng)之地
從現(xiàn)階段國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商產(chǎn)品覆蓋情況來(lái)看,國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商正積極布局半導(dǎo)體前道設(shè)備市場(chǎng)。中國(guó)大陸半導(dǎo)體前道設(shè)備2025年國(guó)內(nèi)晶圓產(chǎn)線擴(kuò)產(chǎn)疊加國(guó)產(chǎn)替代增加設(shè)備儲(chǔ)量等因素,拉動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體前道設(shè)備市場(chǎng)迅猛增長(zhǎng)8.6%達(dá)2551.3億元,預(yù)計(jì)2026年達(dá)2622.5億元。

圖 6 中國(guó)大陸半導(dǎo)體前道設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模
資料來(lái)源:SEMI,優(yōu)園科技
2.3.4AI需求帶動(dòng)封裝設(shè)備市場(chǎng)持續(xù)向好
隨著AI經(jīng)濟(jì)帶動(dòng)大量先進(jìn)封裝訂單,中國(guó)先進(jìn)封裝設(shè)備市場(chǎng)穩(wěn)步上升,預(yù)計(jì)2025年中國(guó)封裝設(shè)備市場(chǎng)上升7.4%,市場(chǎng)規(guī)模達(dá)173.96億元。隨著龍頭封測(cè)公司26年擴(kuò)產(chǎn)規(guī)劃指引將帶動(dòng)中國(guó)封裝設(shè)備整體市場(chǎng)向好,預(yù)計(jì)2025至2026年中國(guó)封裝設(shè)備市場(chǎng)有望迎來(lái)高速增長(zhǎng)。

圖 7 中國(guó)半導(dǎo)體封裝設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模(億元)
資料來(lái)源:SEMI,優(yōu)園科技
2.4國(guó)產(chǎn)設(shè)備驗(yàn)證周期和端口大大增加
相較IC設(shè)計(jì)、封測(cè)環(huán)節(jié),晶圓制造是中國(guó)大陸當(dāng)前半導(dǎo)體行業(yè)短板,自主可控驅(qū)動(dòng)本土晶圓廠大規(guī)模擴(kuò)產(chǎn)。我們統(tǒng)計(jì)發(fā)現(xiàn),僅中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、合肥長(zhǎng)鑫和華虹半導(dǎo)體四家頭部晶圓廠未來(lái)合計(jì)擴(kuò)產(chǎn)產(chǎn)能將超過(guò)80萬(wàn)片/月,尤其先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)具備較大空間。
1)邏輯端:中芯國(guó)際2024年資本開(kāi)支達(dá)到73.3億美元,并預(yù)計(jì)2025年基本持平,維持高位,好于市場(chǎng)預(yù)期。此外,上海華力康橋二期產(chǎn)線啟動(dòng)、北電集成擴(kuò)產(chǎn)啟動(dòng)、中芯京城0001-2地塊掛牌出讓、中芯國(guó)際坪山三期土地整備建設(shè)等均釋放了邏輯端積極擴(kuò)產(chǎn)信號(hào)。
2)存儲(chǔ)端:長(zhǎng)存、長(zhǎng)鑫陸續(xù)增資背景下,2024年重回正常擴(kuò)產(chǎn),2025年有望延續(xù)大規(guī)模擴(kuò)產(chǎn)勢(shì)頭。

圖 8 中芯國(guó)際資本支出情況
數(shù)據(jù)來(lái)源:中芯國(guó)際年報(bào),優(yōu)園科技
根據(jù)統(tǒng)計(jì),目前已在建產(chǎn)線單個(gè)投資金額均超5億元,總投資額超180 億元。封測(cè)行業(yè)風(fēng)頭正盛,國(guó)內(nèi)封測(cè)廠商近三年紛紛積極擴(kuò)產(chǎn),加速布局未來(lái)潛在市場(chǎng)。

圖 9 中國(guó)先進(jìn)封裝產(chǎn)線布局情況
數(shù)據(jù)來(lái)源:優(yōu)園科技,半導(dǎo)體綜研
3.中國(guó)半導(dǎo)體激光設(shè)備市場(chǎng)情況分析
隨著半導(dǎo)體終端應(yīng)用的升級(jí)和對(duì)芯片封裝性能的提升,應(yīng)用于硅片制造、晶圓制造、先進(jìn)封裝和傳統(tǒng)封裝領(lǐng)域的超精密激光加工設(shè)備將迎來(lái)蓬勃發(fā)展。
3.1中國(guó)半導(dǎo)體激光設(shè)備前道制造需求充足
根據(jù)測(cè)算,2024-2025年,由于中芯國(guó)際、華力六廠和鵬芯微切入先進(jìn)工藝,晶圓代工廠對(duì)國(guó)產(chǎn)設(shè)備呼聲和驗(yàn)證程度和成熟度逐漸加深,隨著2024年國(guó)內(nèi)前道產(chǎn)線的產(chǎn)能爬升回復(fù),設(shè)備的需求快速上漲,2024年和2025年中國(guó)半導(dǎo)體激光設(shè)備市場(chǎng)將保持較快增長(zhǎng),同時(shí)隨著碳化硅產(chǎn)能擴(kuò)張國(guó)內(nèi)鵬芯旭、昇維旭等產(chǎn)線產(chǎn)能擴(kuò)產(chǎn),預(yù)計(jì)2026年中國(guó)半導(dǎo)體激光設(shè)備市場(chǎng)將保持穩(wěn)定增長(zhǎng)。
根據(jù)前文分析,目前應(yīng)用于前道晶圓制造的半導(dǎo)體激光設(shè)備主要為激光退火設(shè)備和激光改性設(shè)備,其中根據(jù)應(yīng)用產(chǎn)品不同激光退火設(shè)備又可分為功率器件退火設(shè)備、邏輯芯片退火設(shè)備和存儲(chǔ)器退火設(shè)備;激光改性設(shè)備可分為Nand激光誘導(dǎo)結(jié)晶設(shè)備和DRAM缺陷修補(bǔ)設(shè)備。根據(jù)目前國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏(2026-2028年預(yù)測(cè)按設(shè)計(jì)產(chǎn)能平均分配),具體市場(chǎng)如下:

圖 10晶圓制造環(huán)節(jié)主要激光設(shè)備細(xì)分市場(chǎng)
數(shù)據(jù)來(lái)源:優(yōu)園科技
3.2多重要素疊加推動(dòng)前道半導(dǎo)體激光設(shè)備打開(kāi)增量空間
根據(jù)晶圓代工和封裝產(chǎn)業(yè)發(fā)展的需求,晶圓制造環(huán)節(jié)激光設(shè)備未來(lái)增量主要體現(xiàn)在技術(shù)演進(jìn)、產(chǎn)能擴(kuò)充、國(guó)產(chǎn)化替代和顛覆性技術(shù)創(chuàng)新等方面。
3.2.1激光退火和改性技術(shù)成為先進(jìn)制程的必由之路
從技術(shù)演進(jìn)層面看,異構(gòu)集成正在成為后摩爾時(shí)代,延續(xù)半導(dǎo)體技術(shù)的主流發(fā)展方向。異構(gòu)集成或?qū)⒊蔀槲磥?lái)30年系統(tǒng)級(jí)芯片的主流技術(shù),集成電路有望進(jìn)入異構(gòu)集成時(shí)代。目前異構(gòu)集成中核心的HBM堆疊、2.5D/3D封裝以及Chiplet都是這樣的方向,而這些先進(jìn)技術(shù)將極大推動(dòng)高精度的激光設(shè)備需求,激光退火設(shè)備和材料改性設(shè)備將成為未來(lái)的先進(jìn)制程解決方案。
3.2.2激光退火和改性設(shè)備是解決設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代的關(guān)鍵環(huán)節(jié)
從國(guó)產(chǎn)化產(chǎn)線層面看,國(guó)內(nèi)主流晶圓產(chǎn)線和存儲(chǔ)產(chǎn)線如要發(fā)展先進(jìn)工藝和高端制造工藝,設(shè)備禁令將是極大的影響,因此目前國(guó)內(nèi)主流先進(jìn)制程產(chǎn)線和存儲(chǔ)產(chǎn)線紛紛積極尋找國(guó)產(chǎn)化設(shè)備替代和解決方案,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體激光設(shè)備將具有較好的導(dǎo)入機(jī)會(huì),并且由于禁令原因,部分產(chǎn)商開(kāi)始替換其老舊熱處理設(shè)備,導(dǎo)入國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備,將推動(dòng)國(guó)內(nèi)激光設(shè)備市場(chǎng)的進(jìn)一步擴(kuò)大。
3.2.3激光退火和改性設(shè)備在國(guó)內(nèi)產(chǎn)線擴(kuò)產(chǎn)需求充足
從新建產(chǎn)線增量看,由于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體市場(chǎng)發(fā)展逐漸向先進(jìn)制程和高端存儲(chǔ)產(chǎn)線轉(zhuǎn)型,目前國(guó)內(nèi)中芯國(guó)際、華虹、長(zhǎng)存、長(zhǎng)鑫、晉華和昇維旭等公司均具有新建產(chǎn)線計(jì)劃,并且國(guó)內(nèi)目前仍有較多正在基建的產(chǎn)線,預(yù)計(jì)到2028年將完成國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程產(chǎn)線布局。先進(jìn)制程的發(fā)展將推動(dòng)激光工藝逐步替代傳統(tǒng)的熱處理工藝,進(jìn)而促使市場(chǎng)空間進(jìn)一步打開(kāi)。
3.2.4激光退火和改性設(shè)備是未來(lái)顛覆性技術(shù)的重要解決方案
從新應(yīng)用方向來(lái)看,隨著算力需求的提高,數(shù)據(jù)中心和量子計(jì)算等高算力芯片,對(duì)芯片的精細(xì)度要求越來(lái)越高。以量子芯片為例,量子比特位數(shù)是代表量子計(jì)算機(jī)能力水平的重要參數(shù)之一,量子比特位數(shù)越高,其計(jì)算能力越強(qiáng)。在量子芯片生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)通過(guò)量子芯片的無(wú)損探針儀來(lái)發(fā)現(xiàn)量子芯片的優(yōu)劣,對(duì)于其中的“壞品”、“次品”,會(huì)采用激光退火儀去處理其存在的問(wèn)題,就像是醫(yī)生做手術(shù)一樣,這把“手術(shù)刀”能夠?qū)ΠY下藥,改善其中不良的部分,從而提高量子芯片的品質(zhì)。因此,激光退火在新領(lǐng)域的應(yīng)用也將極大驅(qū)動(dòng)其增長(zhǎng)。
3.3激光設(shè)備匹配硅片和后道市場(chǎng)多樣化應(yīng)用場(chǎng)景
5G、物聯(lián)網(wǎng)、高性能運(yùn)算等產(chǎn)品需求持續(xù)穩(wěn)定增加,大量依賴先進(jìn)封裝,先進(jìn)封裝憑小型化、薄型化、高效率、多集成等優(yōu)勢(shì)和持續(xù)降本,成為“后摩爾時(shí)代”封測(cè)市場(chǎng)的主流。基于我國(guó)目前先進(jìn)封裝占比(39%)小于全球(48%),未來(lái)仍將有廣闊增長(zhǎng)空間,帶動(dòng)激光劃片、激光打標(biāo)及激光臨時(shí)解鍵合等用于封測(cè)環(huán)節(jié)的激光加工設(shè)備進(jìn)一步增長(zhǎng)。同時(shí),算力要求推動(dòng)了 HBM 等新型存儲(chǔ)器超百億美元新興市場(chǎng),進(jìn)而提升TSV、CoWoS 、3D堆疊等先進(jìn)封裝工藝需求,并為用于晶圓制造環(huán)節(jié)的激光晶圓解鍵合、激光Trimming等新興設(shè)備帶來(lái)廣闊發(fā)展空間。
根據(jù)前文分析,目前后道和硅片環(huán)節(jié)的半導(dǎo)體激光設(shè)備主要分為激光劃片設(shè)備、激光打標(biāo)設(shè)備和激光解鍵合設(shè)備,根據(jù)目前國(guó)內(nèi)晶圓廠和后道封測(cè)廠擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏,具體市場(chǎng)如下:

圖 11 中國(guó)激光加工設(shè)備細(xì)分市場(chǎng)情況
數(shù)據(jù)來(lái)源:優(yōu)園科技
3.4先進(jìn)封裝帶動(dòng)半導(dǎo)體激光設(shè)備需求快速增長(zhǎng)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)逐漸逼近硅工藝尺寸的極限,半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)入“后摩爾定律”時(shí)代,先進(jìn)封裝技術(shù)得到了空前發(fā)展。出現(xiàn)于20 世紀(jì)末的多芯片組件(MCM)封裝、系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)、三維立體(3D)封裝和芯片尺寸封裝等技術(shù)快速發(fā)展,并被廣泛應(yīng)用。同時(shí),系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC) 封裝、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)封裝、硅通孔(TSV)技術(shù)、凸點(diǎn)制作(Bumping)、表面活化室溫連接(SAB)等技術(shù)實(shí)現(xiàn)了新的突破,并已實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。封裝技術(shù)及外形的發(fā)展緊跟半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)的進(jìn)程,每一代芯片均有與之相匹配的封裝技術(shù)與外形。21 世紀(jì)以來(lái),先進(jìn)封裝技術(shù)得到了快速發(fā)展,如圓片級(jí)(Wafer Level)封裝、芯片級(jí)(Chip Level)封裝、板級(jí)(Board Level)封裝和系統(tǒng)級(jí)(System Level)封裝等。
隨著電子器件朝著小型化、集成化的方向發(fā)展,電子封裝在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的重要性顯得愈發(fā)突出。由于激光加工具有加工速度快、無(wú)直接接觸、易于集成等優(yōu)點(diǎn),已逐步在半導(dǎo)體封測(cè)領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用,在傳統(tǒng)封裝和先進(jìn)封裝領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。基于先進(jìn)封裝的特殊新興工藝技術(shù)也將帶動(dòng)超精密加工設(shè)備如半導(dǎo)體激光劃片、激光解鍵合設(shè)備、激光IC打標(biāo)設(shè)備等封測(cè)激光加工設(shè)備的需求快速增長(zhǎng)。
4.半導(dǎo)體激光設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)格局
4.1海外壟斷嚴(yán)重,激光設(shè)備成國(guó)產(chǎn)替代的重點(diǎn)攻關(guān)環(huán)節(jié)
從工藝環(huán)節(jié)來(lái)看,全球晶圓制造環(huán)節(jié)的半導(dǎo)體激光設(shè)備主要被海外廠商壟斷,主要包括三井集團(tuán)(JSW)、日本住友重工、應(yīng)用材料、斯科半導(dǎo)體、Veeco等,全球前五企業(yè)市場(chǎng)占比近83.5%,整體市場(chǎng)集中度較高,高端市場(chǎng)幾乎由國(guó)外企業(yè)壟斷。預(yù)計(jì)未來(lái)幾年行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)將更加激烈。
激光退火和改性設(shè)備市場(chǎng)主要集中在亞太地區(qū),其中又以中國(guó)、日本、韓國(guó)等國(guó)家為主要參與者。中國(guó)臺(tái)灣是全球最大的市場(chǎng),占有大約30%的市場(chǎng)份額,之后是韓國(guó)和中國(guó),分別占比20%和15%。由于國(guó)內(nèi)市場(chǎng)起步晚,目前我國(guó)激光退火機(jī)及其核心零部件需求仍依賴進(jìn)口,未來(lái)國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊,國(guó)內(nèi)廠商主要包括華卓精科、上海微電子、成都萊普科技、大族激光、華工激光等。隨著國(guó)內(nèi)設(shè)備產(chǎn)商逐漸成熟,將逐漸占領(lǐng)國(guó)外龍頭企業(yè)的市場(chǎng)份額,國(guó)內(nèi)企業(yè)具有較大的上升空間。
從后道和硅片環(huán)節(jié)的半導(dǎo)體激光設(shè)備來(lái)看,國(guó)際三大龍頭廠商DISCO,EO Technics,ASMPT占據(jù)中國(guó)超五成的市場(chǎng),市場(chǎng)份額約53%,在細(xì)分設(shè)備領(lǐng)域均呈現(xiàn)龍頭壟斷的態(tài)勢(shì)。國(guó)內(nèi)專注于半導(dǎo)體激光設(shè)備的企業(yè)較少,主要為德龍激光、聯(lián)動(dòng)科技(激光打標(biāo))等,近幾年隨我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)和激光技術(shù)的發(fā)展,更多傳統(tǒng)激光設(shè)備廠商逐步開(kāi)拓半導(dǎo)體業(yè)務(wù),如大族激光、邁為股份、華工科技和萊普科技等,然而目前呈現(xiàn)一定銷(xiāo)售規(guī)模體量的企業(yè)較少,大族激光和德龍激光在大陸廠商營(yíng)收靠前,整體來(lái)看國(guó)內(nèi)廠商仍處于起步發(fā)展階段,國(guó)內(nèi)廠商在中國(guó)半導(dǎo)體激光設(shè)備市場(chǎng)份額占比不足15%。
4.2國(guó)內(nèi)龍頭企業(yè)
4.2.1萊普科技:專注半導(dǎo)體前道和后道激光設(shè)備,具備多環(huán)節(jié)激光設(shè)備創(chuàng)新龍頭
萊普科技成立于2003年,以先進(jìn)精密激光技術(shù)及半導(dǎo)體創(chuàng)新工藝開(kāi)發(fā)為核心,核心產(chǎn)品分為激光熱處理設(shè)備與專用激光加工設(shè)備兩大序列,覆蓋半導(dǎo)體前道制造、后道封裝及精密電子等領(lǐng)域,擁有50多項(xiàng)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)?。目前,萊普科技于2025年10月26日提交科創(chuàng)板IPO申請(qǐng)并獲得受理,保薦機(jī)構(gòu)為中信建投。此次IPO,萊普科技擬募資8.50億元,資金用于晶圓制造設(shè)備開(kāi)發(fā)與制造中心項(xiàng)目等共五大項(xiàng)目。
公司相關(guān)設(shè)備目前已經(jīng)部署于華潤(rùn)微、士蘭微、三安半導(dǎo)體、中車(chē)時(shí)代、華天科技、達(dá)邇科技等主流半導(dǎo)體廠商的先進(jìn)制程和先進(jìn)封裝產(chǎn)線。公司具備強(qiáng)大的創(chuàng)新工藝設(shè)備開(kāi)發(fā)能力,針對(duì)長(zhǎng)江存儲(chǔ)和長(zhǎng)鑫等存儲(chǔ)器創(chuàng)新工藝,開(kāi)發(fā)出匹配先進(jìn)制程3D NAND Flash、DRAM、28nm及以下邏輯芯片等創(chuàng)新工藝需求的激光設(shè)備。
公司核心產(chǎn)品激光熱處理設(shè)備市場(chǎng)占有率達(dá)到16%,并隨著國(guó)內(nèi)3D Nand和DRAM的產(chǎn)能擴(kuò)充持續(xù)提升,成為國(guó)產(chǎn)替代核心廠商。從細(xì)分領(lǐng)域來(lái)看,在國(guó)產(chǎn)先進(jìn)架構(gòu)3D NAND 激光誘導(dǎo)結(jié)晶設(shè)備、先進(jìn)制程DRAM 激光外延生長(zhǎng)設(shè)備領(lǐng)域,市占率超90%,為獨(dú)家供應(yīng)商。專用激光加工設(shè)備方面,公司2024年國(guó)內(nèi)市占率約5%,主要集中在封測(cè)激光標(biāo)刻、晶圓切割領(lǐng)域,隨先進(jìn)封裝設(shè)備研發(fā)推進(jìn),預(yù)計(jì)未來(lái)3年市占率將突破 10%。
4.2.2華工激光:專注終端激光設(shè)備,逐步進(jìn)入退火和劃片設(shè)備市場(chǎng)
華工激光是華工科技產(chǎn)業(yè)股份有限公司的核心子公司,專注于激光智能裝備及智能制造解決方案。公司核心產(chǎn)品涵蓋激光切割、焊接、清洗、微納加工等設(shè)備,應(yīng)用于新能源汽車(chē)、3C電子、半導(dǎo)體、鈑金加工等行業(yè),作為中國(guó)激光工業(yè)化應(yīng)用的開(kāi)創(chuàng)者,公司依托華中科技大學(xué)的技術(shù)支持,擁有激光技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室等11個(gè)國(guó)家級(jí)研發(fā)平臺(tái),累計(jì)獲得超過(guò)800項(xiàng)專利,并參與制定多項(xiàng)國(guó)際和國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)?。
公司現(xiàn)有員工2000多人,其中博士、碩士占30%以上,激光研究高級(jí)專家20多人,售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)300多人,銷(xiāo)售、服務(wù)網(wǎng)絡(luò)覆蓋全國(guó),國(guó)內(nèi)辦事處40多個(gè),海外分支機(jī)構(gòu)10多個(gè),公司設(shè)備銷(xiāo)量遍布澳洲、英國(guó)、美國(guó)、德國(guó)、韓國(guó)、意大利、印度、菲律賓、巴基斯坦等30余個(gè)國(guó)家。
公司產(chǎn)品覆蓋3C電子、汽車(chē)制造、航空航天、新能源等20多個(gè)行業(yè),服務(wù)包括世界500強(qiáng)在內(nèi)的全球客戶,2024年?duì)I收34億元,2025年前三季度營(yíng)收31億元,是國(guó)內(nèi)工業(yè)激光的龍頭?。在氫能領(lǐng)域,其燃料電池金屬極板產(chǎn)線市占率超80%;新能源汽車(chē)全鋁車(chē)身激光焊裝生產(chǎn)線填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白?。在半導(dǎo)體激光設(shè)備領(lǐng)域已形成覆蓋晶圓切割、退火、開(kāi)槽、檢測(cè)等全流程的解決方案,并實(shí)現(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破?。
4.2.3上海微電子:新進(jìn)激光退火設(shè)備潛力企業(yè)
上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(簡(jiǎn)稱SMEE)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。公司的IGBT激光退火設(shè)備已在市場(chǎng)中得到應(yīng)用,尤其在超薄硅片退火領(lǐng)域具備競(jìng)爭(zhēng)力。此外,激光退火技術(shù)因其快速、精準(zhǔn)的特點(diǎn),在先進(jìn)制程(如40nm及以下)和新興領(lǐng)域(如碳化硅器件)中需求增長(zhǎng)迅速。
4.2.4大族激光:產(chǎn)業(yè)背景雄厚,扎根多個(gè)半導(dǎo)體環(huán)節(jié)激光設(shè)備
大族激光創(chuàng)立于1996年,于2004年在深圳證券交易所上市,股票代碼為002008,總部位于廣東省深圳市南山區(qū),是一家智能制造裝備整體解決方案服務(wù)商。大族激光的主要業(yè)務(wù)為智能制造裝備及其關(guān)鍵器件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售,主要產(chǎn)品包括激光打標(biāo)機(jī)系列、激光焊接機(jī)系列、激光切割機(jī)系列、光纖及泵浦源等,涉及高端裝備、核心器件、鋰電、光伏、半導(dǎo)體等業(yè)務(wù)領(lǐng)域。
目前大族半導(dǎo)體主要激光產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋硅半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體及泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的晶圓制造、前道、封測(cè)道的傳統(tǒng)封裝和先進(jìn)制程環(huán)節(jié),在表切、激光剝離技術(shù)、開(kāi)槽機(jī)、IC激光打標(biāo)機(jī)、晶圓打標(biāo)機(jī)、TGV、刀輪機(jī)、光刻機(jī)、MiniLED巨量轉(zhuǎn)移及修復(fù)、晶圓芯片分選機(jī)、AOI等方面的設(shè)備及技術(shù)工藝進(jìn)展,在所涉及激光設(shè)備領(lǐng)域均實(shí)現(xiàn)市占率行業(yè)領(lǐng)先。
4.2.5華卓精科:專注激光退火,產(chǎn)品市場(chǎng)認(rèn)可度較高
北京華卓精科科技股份有限公司成立于2012年5月,主營(yíng)業(yè)務(wù)為以超精密測(cè)控技術(shù)為基礎(chǔ),研究、開(kāi)發(fā)以及生產(chǎn)超精密測(cè)控設(shè)備部件、超精密測(cè)控設(shè)備整機(jī)并提供相關(guān)技術(shù)開(kāi)發(fā)服務(wù),主要產(chǎn)品包括精密運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、晶圓級(jí)鍵合設(shè)備、激光退火設(shè)備、靜電卡盤(pán)等。
華卓精科聚焦深度、高效激活的工藝需求,提出多波長(zhǎng)、多光束疊加退火的核心技術(shù),在主退火光束的基礎(chǔ)上疊加輔助預(yù)熱的光束,并憑借公司在超精密測(cè)控方面的技術(shù)優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)了光束和溫度場(chǎng)的靈活可控。
4.2.6德龍激光:多環(huán)節(jié)激光設(shè)備發(fā)力,激光加工設(shè)備龍頭企業(yè)
蘇州德龍激光股份有限公司成立于2005年,公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為精密激光加工設(shè)備及激光器的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售,并為客戶提供激光設(shè)備租賃和激光加工服務(wù)。根據(jù)德龍激光2025年半年報(bào),精密激光加工設(shè)備作為公司主力產(chǎn)品,銷(xiāo)售收入2.05億元,同比增長(zhǎng)1.72%,占主營(yíng)收入的72.34%,其中半導(dǎo)體相關(guān)激光加工設(shè)備實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售收入0.86億元。公司精密激光加工設(shè)備主要分為半導(dǎo)體及光學(xué)領(lǐng)域激光加工設(shè)備、顯示領(lǐng)域激光加工設(shè)備、新型電子領(lǐng)域激光加工設(shè)備及新能源領(lǐng)域激光加工設(shè)備。在半導(dǎo)體封測(cè)激光加工設(shè)備領(lǐng)域,產(chǎn)品主要有晶圓激光隱形切割設(shè)備、晶圓激光開(kāi)槽設(shè)備 (low-k)、激光打標(biāo)機(jī)、激光鉆孔設(shè)備等。在半導(dǎo)體及光學(xué)領(lǐng)域,公司主要客戶包括華為(含海思)、中芯國(guó)際、長(zhǎng)電科技、中電科、華潤(rùn)微、士蘭微、敏芯股份、泰科天潤(rùn)、能訊半導(dǎo)體、三安光電、華燦光電、晶宇光電、舜宇光學(xué)、水晶光電、五方光電、美迪凱等。
4.2.7聯(lián)動(dòng)科技
聯(lián)動(dòng)科技成立于1998年,2022年在深交所創(chuàng)業(yè)板上市,專注于半導(dǎo)體行業(yè)的后道封裝測(cè)試領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售。在半導(dǎo)體激光加工設(shè)備領(lǐng)域,聯(lián)動(dòng)科技的主要產(chǎn)品為激光打標(biāo)機(jī),具有高效率、重復(fù)精度和良好的匹配性。聯(lián)動(dòng)科技具有市場(chǎng)先發(fā)優(yōu)勢(shì)、盈利優(yōu)勢(shì)和產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),研發(fā)投入占比逐年增長(zhǎng),激光打標(biāo)設(shè)備保持較高的毛利率(50%以上)。在產(chǎn)業(yè)鏈方面,聯(lián)動(dòng)科技的激光打標(biāo)設(shè)備性能穩(wěn)定,廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)外主流封測(cè)廠商,享有良好的市場(chǎng)口碑。
5.激光設(shè)備智能化、高端化、精細(xì)化是半導(dǎo)體工藝的重要方向,未來(lái)國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊
以剛提交IPO的萊普科技為例,在政策端,國(guó)家集成電路基金二期(持股萊普科技7.66%)等產(chǎn)業(yè)資本持續(xù)投入,支持設(shè)備廠商研發(fā);在市場(chǎng)端:國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)(長(zhǎng)江存儲(chǔ)2025-2030 年產(chǎn)能計(jì)劃增長(zhǎng)66%和長(zhǎng)鑫未來(lái)仍有5-10萬(wàn)片/月產(chǎn)能的計(jì)劃增長(zhǎng))為國(guó)產(chǎn)設(shè)備提供驗(yàn)證與量產(chǎn)機(jī)會(huì),市場(chǎng)前景廣闊。在技術(shù)端:萊普科技與長(zhǎng)江存儲(chǔ)和長(zhǎng)鑫共同開(kāi)發(fā)匹配國(guó)產(chǎn)化存儲(chǔ)器工藝的激光退火和改性設(shè)備,加速技術(shù)迭代。在國(guó)家安全、卡脖子壓力下,半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)需求增加;國(guó)家支持和市場(chǎng)需求調(diào)動(dòng)了各路產(chǎn)業(yè)資本跑步進(jìn)入半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域;國(guó)內(nèi)全產(chǎn)業(yè)鏈大力配合支持,半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)工作相比此前大幅提速,半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率的穩(wěn)步提升。
由于激光加工具有加工速度快、無(wú)直接接觸、易于集成等優(yōu)點(diǎn),激光技術(shù)已逐漸滲透到半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,瞄準(zhǔn)更小更精密的微觀世界,在芯片切割、打標(biāo)、微焊接、清洗、退火等工藝中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。隨著超大規(guī)模集成電路制造技術(shù)、新型薄膜晶體管顯示技術(shù)和大面積OLED顯示技術(shù)的日益成熟和規(guī)模化,激光熱處理技術(shù)逐漸取代傳統(tǒng)的爐管退火、快速熱退火、尖峰退火、快閃退火,成為新—代主流退火和改性技術(shù)。得益于技術(shù)進(jìn)步,功率半導(dǎo)體性能、體積實(shí)現(xiàn)較大升級(jí),在此背景下,市場(chǎng)對(duì)激光退火機(jī)的要求也不斷提升,智能化、高端化、精細(xì)化將成為其重要升級(jí)方向。目前我國(guó)激光退火機(jī)及其核心零部件需求仍依賴進(jìn)口,未來(lái)國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。

圖 12 國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體激光設(shè)備發(fā)展要素圖
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