當華為推出Mate60系列手機，并使用了Kirin9000S芯片后，當時有些博主表示，美國應(yīng)該會被嚇壞了，然后有可能引來更嚴格的禁令。

畢竟華為突破封鎖了，這當然不是美國看到的，所以接下來要么放開封鎖，要么更嚴格的封鎖，但考慮到放開是不可能的，美國面子掛不住，所以更嚴格的一輪禁令，可能很快會到來。

果然，近日美國發(fā)布了中國大陸的芯片出口管制條款的更新版本，緩沖時間為30天。

這一次針對去年的管制措施，提出了更多的細節(jié)條款，比去年的“史上最嚴厲規(guī)則”更嚴格，又一次“史上最嚴”。

在這個“更嚴”之下，除了對計算性能要求外，還新增了性能密度閾值（“性能密度”等于“總算力”除以晶粒（die）面積），卡的更緊了。

比如原本可以銷售的A800、H800這樣針對中國大陸市場進行過閹割的AI芯片，以及RTX4090這樣的消費級芯片，都無法出口了。

除了針對芯片銷售，有更嚴格的禁令之外，還將13家中資企業(yè)納入實體清單，其中壁韌科技和摩爾線程的子公司加起來就占了9家，打擊的是中國GPU廠商，限制中國在AI方面的發(fā)展。

除此之外，針對半導體設(shè)備，也做出了更嚴格的限定，尤其是光刻機方面，之前ASML能夠出口的NXT:1980Di這臺唯一的浸潤式光刻機，也會受限，無法出口了。

因為新的禁令中，對光源波長、分辨率、套刻精度的DCO值，也做了更嚴格的規(guī)定，而NXT:1980Di的DCO值超過了限制范圍。

也就是說，如果按照美國這個新的禁令，目前ASML所有的浸潤式光刻機，都無法出口了。而另外一家能夠生產(chǎn)浸潤式光刻機廠商尼康，其浸潤式光刻機，也無法出口。

這意味著，我們想通過購買浸潤式光刻機，再通過多重曝光技術(shù)，來生產(chǎn)7nm芯片的路，基本上堵死了。

很多人表示，對浸潤式光刻機下手，堵住所有的路，就是為了堵住Kirin9000S的路，因為它其實就是浸潤式光刻機采用多重曝光技術(shù)之下的產(chǎn)物。

接下來，中國芯會怎么辦？我覺得沒有其它辦法，那就是只有自研和突破。正如張忠謀所言，半導體的全球化和自由貿(mào)易已死，我們只有打造自己的供應(yīng)鏈才行了，其它一切外力都靠不住。