據《中國日報》等多家媒體報道，荷蘭最新芯片出口管制措施于今日（9月1日）生效。

對此，荷蘭芯片制造設備巨頭ASML（阿斯麥）方面回復稱，目前，ASML已向荷蘭政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請，荷蘭政府也已經頒發(fā)了截至9月1日所需的許可證，允許ASML今年繼續(xù)發(fā)運TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。（注：涉及16nm及以下制程工藝制造部分）

那么根據最新變化，明年1月起，ASML三款先進浸沒式深紫外光刻機 (DUV) 設備將不會對中國出口，這對國內半導體產業(yè)鏈將造成深遠的影響。NXT: 2000i及后續(xù)光刻系統(tǒng)半間距為38nm、對準精度為2.0nm以內，對應是16nm至7nm先進制程芯片的制造（基于芯片類型不同，也可用在45nm及以下的成熟制程當中），因此業(yè)界普遍認為，此次受限制的是16nm及以下制程工藝制造。

各個工藝節(jié)點和光刻技術的關系

ASML半導體光刻機產品參數

ASML的EUV光刻機歷程

2006年，ASML推出了第一臺EUV光刻機AlphaEUV演示工具，標志著ASML正式進入EUV光刻機領域。隨后，公司開始大力推進EUV技術的研發(fā)與生產，不斷改進產品的性能與精度，發(fā)展了一系列的EUV光刻機產品。2014年，ASML推出了世界上第一臺EUV可用于芯片生產的光刻機，標志著EUV技術已經開始商業(yè)化。

    到了2017年，ASML推出了支持7納米和5納米節(jié)點的EUV量產型號TWINSCANNXE:3400B，它的分辨率遠高于傳統(tǒng)的ArFi光刻機，并能夠在制造高密度存儲芯片時發(fā)揮巨大的作用。截止至2022年底，ASML實際賣出EUV光刻機僅182臺，在這個數字下，EUV光刻機的市場份額仍然相當小。

ASML的EUV光刻機客戶情況

ASML的EUV光刻機客戶主要分為兩類，一類是制造芯片的企業(yè)，如英特爾、三星、臺積電，另一類是制造DRAM內存的企業(yè)，如美光、SK海力士、三星。這些客戶均是全球知名的科技公司，在各自領域擁有著廣泛的產品線和市場份額，并且對高精度、高質量的光刻機需求較大。

值得注意的是，ASML僅有5個EUV光刻機客戶，這也正是EUV光刻機市場較小的主要原因之一。

EUV光刻機市場需求現狀

EUV光刻機是當今半導體生產過程中最重要和最昂貴的設備之一。EUV光刻機的生產成本極高，需要巨額的研發(fā)資金和投入，而且其制造流程復雜，技術難度也非常高。同時，EUV光刻機市場的需求量并不像想象中那么大，目前ASML是唯一的EUV光刻機生產商，其它光刻機企業(yè)不研發(fā)EUV光刻機的原因，是因為會與ASML打價格戰(zhàn)，最后雙方都會虧損。因此，目前EUV光刻機市場份額比較小，但是其商業(yè)價值以及在芯片生產過程中的地位不言而喻。

中國研發(fā)EUV光刻機

中國正大力發(fā)展芯片制造產業(yè)，在芯片高端制造領域持續(xù)加強技術攻關。EUV光刻機作為半導體領域的重要制造設備之一，已經成為中國芯片制造產業(yè)發(fā)展的關鍵環(huán)節(jié)。

目前在全球范圍內，除ASML之外，中國是唯一一家研發(fā)EUV光刻機的企業(yè)。由于EUV光刻機的研發(fā)周期極長，技術難度極大，中國需要長時間的持續(xù)投入。目前，中國還沒有成熟的EUV光刻機技術，但中國政府正加大對該領域的投資和扶植，而首次購買EUV光刻機的中國企業(yè)——中芯國際也將成為中國EUV光刻機在市場上探索的重要推手。

總結

EUV光刻機是半導體制造領域的重要裝備，目前市場份額相對較小，但商業(yè)價值和在芯片生產中的地位不容小覷。ASML公司在EUV光刻機領域中占據著重要的市場地位，客戶主要集中在制造芯片和DRAM內存領域之內。除ASML之外，目前全球沒有其它光刻機企業(yè)研發(fā)EUV光刻機，這也是EUV光刻機市場需求量相對較小的主要原因之一。中國正積極尋求獨立研發(fā)EUV光刻機，計劃加快在半導體領域的技術攻關和產業(yè)升級。