眾所周知，目前卡住中國芯片產業的關鍵設備是光刻機。只要光刻機突破，擁有自己的浸潤式光刻機，以及EUV光刻機，芯片產業的脖子就沒有了，美國就卡不住了。

而近日ASML對光刻機出口進行了補充說明，TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒式光刻機不能出口，浸潤式光刻機，只能出口比較落后的TWINSCAN NXT：1950i

很多人表示，把這臺光刻機買回來，然后拆了研究，再模仿出來，以后就能夠自己生產浸潤式光刻機，不需要ASML了。

那么問題就來了，大家都說中國的模仿能力強，ASML的光刻機，我們能模仿出來么？

事實上，之前網上就流傳一句話，那就是給你們全套光刻機的圖紙，中國也制造不出光刻機來，意思就是光刻機，不是看了圖紙，或者知道原理就能造出來的。

要是真能夠模仿，估計國內早就有了浸潤式光刻機了，甚至連EUV光刻機都有了。

原因在于ASML的光刻機，需要大量的核心元件，這些元件，是模仿不出來的，而國外廠商也不賣給你，我們制造不出來，所以高端光刻機，我們制造不出來。

光刻機有三大核心部分，一是光源，二是物鏡系統，三是工作臺。

就拿浸潤式光刻機來說，光源這一塊，需要193nm的紫外線光源，這一塊我們能夠搞定，工作臺方面，我們也算是能夠搞定，最多品質差一點點，精度差一點點。

但是物鏡系統這一塊，國內搞不定。物鏡系統是光刻機中最昂貴的部分，浸沒式光刻物鏡異常復雜，涵蓋了光學、機械、計算機、電子學等多個學科領域最前沿。

目前全球只有一家廠商有這個技術，那就是德國的蔡司公司，不過它的技術不能賣給中國，是受限制的。

所以，就算我們知道光刻機原理，甚至拿到圖紙，還有ASML的實物光刻機，拆了又拆，也制造不出物鏡系統來，因為這是全球最頂尖的光學技術，我們沒有。

所以，很多高精尖的東西，并不是模仿就能夠模仿出來的，能夠模仿的，都是沒有太多科技含量，沒有什么門檻的東西，作為全球最精密的儀器--光刻機，要是能這么好模仿，那就卡不住脖子了。