中商情報(bào)網(wǎng)訊：三氟化氮是一種強(qiáng)氧化劑，是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在集成電路和顯示面板等領(lǐng)域均有廣泛的應(yīng)用。

供需分析

全球三氟化氮的需求較為平穩(wěn)，總體供給大于需求，供給與需求均呈平穩(wěn)增長的趨勢。受益于下游集成電路制造工廠產(chǎn)能擴(kuò)張、集成電路制程技術(shù)節(jié)點(diǎn)微縮、3DNAND多層技術(shù)的發(fā)展，芯片的工藝尺寸越來越小，堆疊層數(shù)增加，集成電路制造中進(jìn)行刻蝕、沉積和清洗的步驟增加，高純?nèi)男枨髮⒖焖僭鲩L。預(yù)計(jì)2023年全球三氟化氮的需求將達(dá)4.61萬噸，供給將達(dá)5.32萬噸。

數(shù)據(jù)來源：TECHCET、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

競爭格局分析

從競爭格局來看，全球三氟化氮市場中，SKMaterials、派瑞特氣、韓國曉星市場份額占比較高，市場份額占比分別為28%、24%、21%。德國默克、日本關(guān)東電化、日本三井占比分別為11%、8%、3%。

數(shù)據(jù)來源：TECHCET、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理