- 給中國樹立榜樣：被日本制裁后，韓國3年量產(chǎn)EUV光刻膠
- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機，我們也無法順利制造7nm芯片
- 一臺EUV光刻機，年耗電1000萬度，臺積電也要心痛電費
- ASML的哀愁：EUV光刻機將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出，ASML的EUV光刻機時代正在落幕
- 發(fā)力NIL技術，佳能想給中國提供光刻機，還是媲美EUV的那種
- 中國研發(fā)石墨烯芯片，替代硅基芯片，就不需要EUV光刻機了？
- 華為公布一項EUV光刻新專利
- 怕被市場拋棄，ASML急著擴大產(chǎn)能，EUV光刻機提升210%
- 要造芯片就離不開ASML？EUV技術壁壘雖高，但已經(jīng)有人做到了繞路而行
