- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- 一個(gè)尷尬的事實(shí)：離開(kāi)美國(guó)的技術(shù)/設(shè)備，我們只能制造65nm芯片
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- 聯(lián)想的尷尬：不造芯被罵，造出5nm芯片也要被罵？
- 臺(tái)積電美國(guó)5nm芯片廠取得突破 2024年如期量產(chǎn)
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- 不需EUV光刻機(jī)也能生產(chǎn)5nm芯片，半導(dǎo)體技術(shù)迎來(lái)重大突破
- ASML的壞消息，日本廠商新技術(shù)，不要EUV光刻機(jī)，可生產(chǎn)5nm芯片
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- 雖有摻水嫌疑，但臺(tái)積電5nm芯片依然最牛
