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三星內存技術突然落后!決定中斷12nm DRAM芯片開發:直上11nm
1nm光刻機要來了,每臺售價約20億
ASML最新EUV光刻機曝光:成本10億,精細到1nm
將芯片節點縮小至 1nm 以下:彭博社對話 IMEC CEO
下一代半導體競爭:超導體觸點有望實現1nm芯片
Rambus在三星14/11nm的HBM2E解決方案擴展其高性能內存子系統產品
臺積電 1nm 以下制程取得重大突破,已發表于 Nature
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